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产品详情
5:1 紫外制版镜头
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5:1 紫外制版镜头
品牌: 高普乐Glopro
型号: GPL-UV1051
物方视场: 21mm X 11mm
镜头焦距/倍率: 5X (可微调 0.1%) 调整后锁紧.
产品特点: 产品具有衍射极限的成像质量、高分辨力、大视场、畸变极小高性能等优势。
应用领域: 适用于微电子生产投影式光刻机等制作工艺。
产品概述
功能特点
技术参数
实拍效果


5:1紫外制版镜头


  光刻物镜是微电子生产投影式光刻机的核心部件,随着微电子生产工艺不断向微细化、集成化发展,对光刻镜头的要求越来越高。要求具有衍射极限的成像质量、高分辨力、大视场、畸变极小,其性能直接决定了光刻机的图形传递能力。制造光刻物镜除了设计出一个成像完善的光学系统和精选优质的光学玻璃外,关键在于光学加工、结构设计装配以及相关的测试技术等。


      目前能生产ArF激光机用大口径光刻物镜的只有为数不多的几个跨国公司,例如、日本的Canon和Nikon、荷兰的ASM、美国的SVG等。



基本参数


物方视场:   21mm X 11 mm

放大倍率:   5X (可微调 0.1%) 调整后锁紧.

像方尺寸:   105mm X 55 mm

物方数值孔径:   0.25

,像远心光路

物方工作距离: > 30 mm

像方工作距离: > 100 mm

设计波长范围: 390~ 415 nm

透过率: > 75% @ 350nm ~ 450nm


像质要求


所有视场内MTF: > 0.3 @ 600 lp/mm

像方畸变:   0.005%

要求物,像远心光路: 主光线倾角<2.5

放大倍率误差: 0.05%


其它参数


最大外径: < 125 mm

透镜长度: < 260 mm

两端螺纹为: M123X0.75 长度11mm;M63X0.75 长度11mm

镀增透膜波长范围: 350nm ~ 450nm

物像共轭距: < 420 mm