2:1 放大制版镜头(122B)

　　光刻物镜是微电子生产投影式光刻机的核心部件，随着微电子生产工艺不断向微细化、集成化发展，对光刻镜头的要求越来越高。要求具有衍射极限的成像质量、高分辨力、大视场、小畸变，其性能直接决定了光刻机的图形传递能力。制造光刻镜头除了设计出一个成像完善的光学系统和精选优质的光学玻璃外，关键在于光学加工、结构设计装配以及相关的测试技术等。

物方视场:   15mm X 11 mm (18mm diameter)

放大倍率:   26/13.68=1.9 (可微调 0.1%)

像方尺寸:   28.5 mm X 21 mm

物方数值孔径:   0.1

物,像远心光路

物方工作距离: > 70 mm <75mm

像方工作距离: > 100 mm

设计波长范围: 395~ 415 nm,

透过率: > 80% @ 395nm ~ 415nm

所有视场内MTF: > 0.2 @ 100 lp/mm

像方畸变:   0.025%(全视场+/-8um）

要求物,像远心光路: 主光线倾角<1 度

放大倍率误差: 0.05%

最大外径: < 100 mm

两端用细牙螺纹

要求放大倍率微调机构稳定可靠.调整后锁紧.

镀增透膜波长范围: 350nm ~ 450nm

透镜长度: < 180 mm

物像共轭距: < 380 mm